標氣稀釋儀是一臺專為實驗室設計的用于將高濃度的標準氣體稀釋成大氣濃度的用于實驗室GC校準用的低濃度氣體。過全自動準確控制標氣和稀釋氣的比率，得到準確的低濃度的標氣。可以同時用一路稀釋氣混合5個樣品罐內(nèi)的標準氣體來制備不同濃度的校正氣體。方便快捷，多點校正一次完成。高達六個的質(zhì)量流量控制器在平衡條件下產(chǎn)生重現(xiàn)性。
 

　　標氣稀釋儀使用的幾種方法：
 

　　一、基于質(zhì)量流量控制器(MFC)
 

　　先有兩路氣源，一路是惰性氣體，另外一路是標準氣，這兩路氣源輸出的氣體經(jīng)過減壓閥減壓進入質(zhì)量流量控制器，各路質(zhì)量流量控制器根據(jù)控制模塊設定的濃度值控制氣體的流量，氣體流量的不同決定混合后產(chǎn)生的混合氣體的濃度也不同，從而達到配制目標氣體濃度的目的。
 

　　二、基于電子壓力控制(EPC)
 

　　電子壓力控制技術，從控制角度講，就是采用閉環(huán)反饋控制技術，對壓力、壓差、流量信號進行綜合分析與控制，并組成一個易于操作使用的預制模塊。模塊由帶有溫度、壓力補償?shù)谋壤y、開關閥及壓力或流量傳感器構成。因此，電子壓力控制能夠十分輕松地實現(xiàn)惰性氣體的流量變化，從而實現(xiàn)稀釋作用。這種氣體稀釋方法廣泛應用于色譜分析試驗中，繪制出低濃度組分的標準曲線。
 

　　三、基于臨界流噴嘴
 

　　臨界流噴嘴，也稱為音速噴嘴，氣體流經(jīng)噴嘴時，氣體流速將隨上下游的壓力差(即噴嘴上游入口壓力與噴嘴下游出口壓力之差)的增大而增大。當噴嘴的下游壓力和上游壓力之比達到一定值時，進一步提高上游壓力，氣體流速將變得與下游壓力無關，即流過噴嘴的流速(流量)將保持恒定，此時的比值稱為臨界壓力比。臨界流噴嘴動態(tài)氣體稀釋裝置正是利用臨界壓力比下流經(jīng)噴嘴流量恒定特性。由于該原理的氣體稀釋裝置具有高精度兼容腐蝕氣體等優(yōu)點，現(xiàn)在得到越來越廣泛地使用。